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工信部公开推广两款国产DUV光刻机 目前光刻机国产化率仅为2.5%与海外差距较大

发布时间:2024-09-20 10:10:35    作者:xjh    来源:   

工信部公开推广两款国产DUV光刻机 目前光刻机国产化率仅为2.5%与海外差距较大9月9日,工信微信微信官方账号发布《第一台(套)重大技术设备推广应用指导目录(2024年版)》。其中,氟化氪光刻机和氟化氩光刻机位列电子专用设备一栏。数据显示,氟化氩光刻机分辨率低于65纳米,套刻精度低于8纳米。

根据东兴证券研究报告,光刻机可分为直写光刻机和掩膜光刻机,市场主流有i-Iine(汞线)、KrF(氟化氪)、ArF(氟化氩)、ArFi(浸润氟化氩)、EUV五大类(极紫外线)。

本次当选推广目录中的氟化氩光刻机,应属于干试ArF光刻机。根据实际指标,与ASML旗下的TWINSCANSCANS NXT:TWINSCANS1470 XT:1460K类似。工信部公开推广两款国产DUV光刻机 目前光刻机国产化率仅为2.5%与海外差距较大

工信部公开推广两款国产DUV光刻机 目前光刻机国产化率仅为2.5%与海外差距较大

根据市场监管总局等5个部门今年4月联合发布的《中国第一台(套)重大技术设备检验评价管理条例(实施)》,重大技术设备是国家最重要的设备,关系到综合国力和国家安全。中国第一台(套)重大技术设备是指在中国实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的设备产品,包括整机设备、核心系统和关键零部件。

国产光刻机的实力几何?

据《工信微报》报道,此次指导目录是加强我国产业、财政、金融、科技等扶持政策的协调,以促进第一台(套)重大技术设备的改革、创新和推广应用。

具体而言,氟化氪光刻机的晶圆直径为300mm(12英尺);248毫米的照明波长;分辨率≤110nm;套刻≤25nm。

相比之下,阿斯麦(ASML)TWINSCANANSCANS的氟化氪光刻机型号 NXT:870、TWINSCAN XT:TWINSC860N和TWINS XT:860M型号,波长为248毫米。;分辨率≤110nm。

而且指导目录中比较先进的氟化氩光刻机,其照明波长为193mm,分辨率≤65nm;套刻≤8nm。

这个数据与ASML的TWINSCANAN相关 XT:1460K最接近。该型号的照明波长为193mm,分辨率≤另外,在偏振照明下,该系统可实现低至57nm的生产分辨率。

工信部公开推广两款国产DUV光刻机 目前光刻机国产化率仅为2.5%与海外差距较大

相比之下,TWINSCANSANSASML浸润式光刻机 NXT1980Fi分辨率≤38nm。根据民生证券研究报告,该型号可实现2.5nm套刻精度(MMO)。工信部公开推广两款国产DUV光刻机 目前光刻机国产化率仅为2.5%与海外差距较大

根据东海证券援引ASML网站的数据,2023年各类光刻机均价为EUV(17386万欧)、ArFi(7196万欧)、ArFdry(2742万欧)、KrF(1192万欧)、i-Iine(399万欧)。

东海证券认为,目前国产化的光刻机只有2.5%,整机技术与海外差距较大。一方面,90nm在短期5~10年内大力发展。、R&D28nm光刻机量产至关重要,一方面重点发展国内半导体零件。

光刻机产业链亟待发展。

东海证券表示,根据中国国际招标网的信息,在半导体设备的招标中,蚀刻、沉积等核心设备的国产化有了很大的提升,核心是中国相关企业在技术上逐渐追逐上海外公司;然而,作为核心设备,雕刻机的国产化不到3%。核心原因是零部件供应与整机技术与海外差距较大。

9月18日,光刻机(胶粘剂)板块在东方财富概念板块排名第一,板块整体涨幅达到2.47%。其中,同飞股份和波长光电均获得“20厘米”涨停;新莱应材上涨了12.40%。此外,张江高新、海立、凯美特气等。都有每日限额。

9月19日,光刻机的概念继续活跃,凯美特气和海立股份均有涨停,张江高新涨幅超过6%,波长光电、京华激光、苏大维格等也有涨停。

张江高新因投资上海微电子公司而备受关注。9月10日,张江高新在投资者互动平台上表示,公司通过子公司上海张江浩成风险投资有限公司投资上海微电子公司2.23亿元,持有上海微电子公司10.779%的股份,后续未加持或减持。

工信部公开推广两款国产DUV光刻机 目前光刻机国产化率仅为2.5%与海外差距较大

东兴证券表示,在国内企业中,上海微电子是中国第一家也是唯一一家光刻机巨头,出货量已占国内市场份额的80%以上,产品主要包括ArF。、KrF和i-在line领域,它已经具备了制造90nm及以下芯片的能力。

在光刻机零部件方面,同飞有限公司在2023年年中报告称,其液态恒温设备主要用于控制光刻机、蚀刻机、研磨抛光机等关键设备的温度。在半导体制造设备领域。工信部公开推广两款国产DUV光刻机 目前光刻机国产化率仅为2.5%与海外差距较大

但根据东兴证券研究报告,光刻机的核心部件包括灯源系统、双操作台、物镜系统、对准系统、曝光系统、浸没系统、光栅系统等。配套设施包括光刻胶、掩膜版、涂胶显影等。

在灯源系统方面,根据华金证券,科益虹源主要研发248nm准分子激光器,干试193nm准分子激光器等,针对激光光源,科益虹源主要研发KBBF晶体。

据东兴证券报道,波长光电是中国激光光电设备的主要供应商。目前,公司有能力提供光刻机配套的大孔径光学镜头。公司成功开发的光刻机平行灯源系统可用于国内光刻机领域的配套设施。

2023年9月15日,波长光电还披露了投资者活动记录表,称公司在半导体领域主要包括两个领域:一个是生产领域,即曝光器和光刻。公司可以提供大直径光学镜头进行检测、折射和投射,还可以提供平行灯源系统;另一个是检测领域。公司可以在检测设备上提供光电设备和部件,也可以为客户定制开发和安装调子系统。

在物镜系统方面,东兴证券表示,茂莱光学光刻机曝光物镜超精密光电器件加工工艺已经实现产业化。

根据东海证券研究报告,2023年中国进口的光刻机数量达到225台,进口金额达到87.54亿美元,进口金额达到历史新高。预计中国光刻机主要依靠进口三到五年。一台先进的光刻机有多达10万个零件。总的来说,中国半导体零件的国产化非常低。虽然相关国企在各种跑道上不断发展,但与海外企业仍有较大差距,这也预示着国内零部件公司有很大的发展机遇。


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